レーザーテック株式会社

証券コード: 6920 / 対象年度: 2018 / 提出日: 2018-09-27
業種 電気機器

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

半導体およびフラットパネルディスプレイ(FPD)分野における先端技術を用いた検査・測定装置の設計、製造、販売を行う企業です。光技術を核とした精密機械、エレクトロニクス、ソフトウェアの高度な融合により、世界中の顧客に対し迅速にソリューションを提供しています。

主な事業領域

半導体関連装置およびその他の装置(FPD等)の設計、製造、販売、および付随するサービスの提供。

主な製品・サービス

  • 半導体マスク欠陥検査装置
  • 半導体マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置
  • FPDフォトマスク欠陥検査装置
  • 保守・メンテナンスサービス

ビジネスモデル

検査・測定装置の設計、製造、販売および保守メンテナンスサービスの提供による収益。研究開発への継続的な投資を行いながら、営業利益率20%以上を目標としています。

セグメント・事業構成

検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメント。

戦略・方向性

新中期経営計画(フェーズⅢ)へ移行し、HPC、5G、AI、IoT等の技術革新に伴う需要拡大に対応。特に次世代露光技術であるEUVLなどの先端分野への注力と、コアビジネスの強化、新規事業の収穫、グローバルなサービス体制の強化を推進。

強みとして読み取れる点

  • 高度な光技術に基づく精密機械・エレクトロニクス・ソフトウェアの融合
  • 強固な財務基盤(自己資本比率70.9%)
  • 先端分野への高い適応力

課題として読み取れる点

  • 急速に変化する半導体業界における継続的な研究開発投資
  • グローバルなサービス体制の強化

確認ポイント

  • EUVL関連やウェハ検査関連の新製品の収穫状況
  • 次世代技術(HPC, 5G, AI, IoT)への対応状況
  • 営業利益率20%以上の目標達成に向けた成長戦略の進捗

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、経営方針、主要な課題、財務状況が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報が含まれているため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

研究開発における新製品の投入タイミングや、未成熟な技術に起因する予期せぬ品質問題、知的財産権の侵害または紛争への巻き込まれによる影響。半導体市場の需給バランスや技術変化に伴う業績への影響、高額な装置の検収時期の変動による売上計上の不安定さ、代替困難な特殊部材の供給停滞、海外事業における規制・為替リスク、および大規模災害や情報漏洩といった外部要因が挙げられています。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

レーザーテックは、高度な光技術を核としたオプトメカトロニクス技術で半導体検査装置のトップシェアを誇る。中期経営計画に基づき、既存事業の強化と次世代露光技術(EUVL)等の先端分野への注力により、持続的な成長を目指す。強固な財務基盤と高い利益率目標を両立させる戦略は非常に明確。

成長方針

12ヵ年の新中期経営計画に基づき、コアビジネス(半導体マスク欠陥検査等)のシェア拡大、新規事業(EUVL関連、ウェハ検査関連)の収穫期への対応、およびグローバルなサービス体制の強化を推進。特に次世代露光技術(EUVL)などの先端分野に注力。

資本政策

営業利益率20%以上を維持しつつ、強固な財務基盤の構築と積極的な研究開発投資の両立を目指す。資本効率を意識しつつ、財務リスクを低く抑える方針。

リスク対応方針

研究開発における新製品投入タイミングの管理、高度な専門人材の確保と育成、半導体市場の変動への適応、知的財産権の保護・紛争回避、特殊部材の調達安定化、および海外事業における地政学的リスクや為替リスクへの対応体制を整備。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 5 / 5

有報ナビによる整理

レーザーテックは、光技術と精密機械を融合させたオプトロニクス分野で圧倒的な競争力を有する。特にEUVリソグラフィやGaNウェハ検査など、次世代半導体製造プロセスにおける最先端の課題解決に特化した研究開発が非常に活発であり、高い参入障壁と成長性の高い市場への適応力が強み。

設備投資の方向性

設備投資は4億円規模で、特定の大型投資よりも研究開発への集中が見られる。将来の成長に向けた基盤整備に充てられている。

研究開発・商品開発

光技術を核としたオプトメカトロニクス分野で積極的な投資を実施。EUVリソグラフィ対応、GaNウェハ検査、AIによる自動欠陥分類など、最先端半導体プロセスへの対応が加速している。

投資・変化テーマ

  • 半導体検査装置
  • EUVリソグラフィ
  • GaN(窒化ガリウム)
  • AI技術応用
  • オプトメカトロニクス

関連キーワード

  • 光技術
  • 精密機械
  • エレクトロニクス
  • 画像処理
  • 共焦点光学系
  • DUV
  • EUV
  • ディープラーニング

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2017-07-01 〜 2018-06-30 表示状況表示可能

提出日: 2018-09-27

財務情報

業績

売上高

212.52億円
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経常利益

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57.07億円
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43.66億円
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財政状態・流動性

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381.22億円
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101.07億円
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キャッシュフロー

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+29.17億円
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財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
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確認事項

開示上の確認事項

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文書情報を確認
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2017-07-01 〜 2018-06-30
表示状況
表示可能
選定状況
表示可能
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ready

有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抽出本文 / 原文長 約522文字

3【事業の内容】 当社グループ(当社及び連結子会社、以下同じ)の事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントでありますが、当社グループが営んでいる主な事業内容は、半導体関連装置及びその他の装置等の設計、製造、販売並びにこれらに係るサービスに区分されます。 半導体関連装置及びその他の装置等の設計、製造は連結財務諸表提出会社(以下「当社」という)が行っております。 販売については、 北米地域及び欧州地域に対しては連結子会社のLasertec U.S.A., Inc.が行っており、国内及びアジア地域に対しては当社が行っております。 サービスについては、 北米地域並びに欧州地域に対しては連結子会社のLasertec U.S.A., Inc.、韓国に対しては連結子会社のLasertec Korea Corporation、台湾に対しては連結子会社のLasertec Taiwan, Inc.、中国に対しては連結子会社のLasertec China Co., Ltd.が行っております。国内及びその他のアジア地域に対しては当社が行っております。 なお、当社及び各関係会社等の事業を事業系統図によって示すと以下のとおりとなります。

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1252文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、創業以来「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念に、半導体・FPDをはじめとする先端分野の市場に、各種検査・計測システムを提供してまいりました。今後もこの経営理念を堅持し、「世界中のお客様から何か困ったことが有れば、真っ先に声をかけて頂ける」会社を目指します。そのために、当社グループのコア技術である光技術を軸として、精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術で、どこよりも早くソリューションを顧客に提供し貢献していくことを会社のミッションとしています。 (2)経営環境及び目標とする経営指標 当社グループは、企業の価値を高め続けることが、本来あるべき企業の成長の姿と考えており、この成長により、株主をはじめとするすべてのステークホルダー(利害関係者)の満足度向上を目指します。 当社グループの主たる事業領域である半導体業界は、技術革新のスピードが速く、常に最先端に向けた研究開発投資を継続的に行う必要があります。成長への投資を継続しつつ確固たる財務基盤を築くために、営業利益率20%以上を目標としております。 (3)対処すべき課題 当社グループは、合計12ヵ年の新中期経営計画 (注) を推進しており、2018年6月期はフェーズⅡの最終年度でした。フェーズⅡでは、コアビジネスの更なる強化と、新規事業の基盤を確立することを方針に掲げ、成長戦略を進めてまいりました。 2019年6月期からいよいよフェーズⅢに入ります。この期間には、HPC (ハイパフォーマンスコンピューティング)、5G(第5世代移動通信システム)、AI(人工知能)、IoT(様々なものがインターネットにつながる)、ADAS(先進運転支援システム)などの技術革新に伴う半導体需要の裾野の広がりから半導体の需要は大きく増加していくことが予想されます。 以下のような施策を実行し、特に次世代の露光技術であるEUVL(極端紫外線リソグラフィ)などの先端分野に注力することで、この成長する半導体業界の中で更に大きな成長を目指すことが、当社グループの果たすべき課題と考えております。 ① コアビジネス 半導体マスク欠陥検査装置、半導体マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、FPDフォトマスク欠陥検査装置などは、装置性能を向上させ、競争力をさらに強化することで、圧倒的なシェアを取ることを目指します。 ② 新規事業 特にフェーズⅢの期間では、フェーズⅡまでに種蒔きをしたEUVL関連やウェハ検査関連の新製品が、いよいよ収穫期に入ります。新規事業の収穫を確実なものにして、当社の躍進につなげてまいります。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1252文字

1【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 (1)会社の経営の基本方針 当社グループは、創業以来「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念に、半導体・FPDをはじめとする先端分野の市場に、各種検査・計測システムを提供してまいりました。今後もこの経営理念を堅持し、「世界中のお客様から何か困ったことが有れば、真っ先に声をかけて頂ける」会社を目指します。そのために、当社グループのコア技術である光技術を軸として、精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術で、どこよりも早くソリューションを顧客に提供し貢献していくことを会社のミッションとしています。 (2)経営環境及び目標とする経営指標 当社グループは、企業の価値を高め続けることが、本来あるべき企業の成長の姿と考えており、この成長により、株主をはじめとするすべてのステークホルダー(利害関係者)の満足度向上を目指します。 当社グループの主たる事業領域である半導体業界は、技術革新のスピードが速く、常に最先端に向けた研究開発投資を継続的に行う必要があります。成長への投資を継続しつつ確固たる財務基盤を築くために、営業利益率20%以上を目標としております。 (3)対処すべき課題 当社グループは、合計12ヵ年の新中期経営計画 (注) を推進しており、2018年6月期はフェーズⅡの最終年度でした。フェーズⅡでは、コアビジネスの更なる強化と、新規事業の基盤を確立することを方針に掲げ、成長戦略を進めてまいりました。 2019年6月期からいよいよフェーズⅢに入ります。この期間には、HPC (ハイパフォーマンスコンピューティング)、5G(第5世代移動通信システム)、AI(人工知能)、IoT(様々なものがインターネットにつながる)、ADAS(先進運転支援システム)などの技術革新に伴う半導体需要の裾野の広がりから半導体の需要は大きく増加していくことが予想されます。 以下のような施策を実行し、特に次世代の露光技術であるEUVL(極端紫外線リソグラフィ)などの先端分野に注力することで、この成長する半導体業界の中で更に大きな成長を目指すことが、当社グループの果たすべき課題と考えております。 ① コアビジネス 半導体マスク欠陥検査装置、半導体マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、FPDフォトマスク欠陥検査装置などは、装置性能を向上させ、競争力をさらに強化することで、圧倒的なシェアを取ることを目指します。 ② 新規事業 特にフェーズⅢの期間では、フェーズⅡまでに種蒔きをしたEUVL関連やウェハ検査関連の新製品が、いよいよ収穫期に入ります。新規事業の収穫を確実なものにして、当社の躍進につなげてまいります。…

経営成績・財政状態の概況

抜粋表示 / 原文長 約5500文字

3【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1)経営成績等の状況の概要 当連結会計年度における当社グループ(当社、連結子会社)の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況 a. 財政状態 当連結会計年度末における総資産は381億21百万円となり、前連結会計年度末に比べ51億2百万円増加いたしました。これは主に、受取手形及び売掛金が16億4百万円減少したものの、仕掛品が37億77百万円、 流動資産のその他が12億69百万円、原材料及び貯蔵品が8億54百万円 増加したことによるものであります。 負債につきましては、当連結会計年度末残高は110億68百万円となり、前連結会計年度末に比べ25億28百万円増加いたしました。これは主に、未払法人税等が2億58百万円減少したものの、前受金が30億16百万円増加したことによるものであります。 株主資本につきましては、当連結会計年度末残高は267億99百万円となり、前連結会計年度末に比べ25億62百万円増加いたしました。これは主に、剰余金の配当により18億3百万円減少したものの、親会社株主に帰属する当期純利益を43億66百万円計上したことによるものであります。 株主資本にその他の包括利益累計額及び新株予約権を加えた純資産合計は270億53百万円となり、また自己資本比率は70.9%となりました。 b. 経営成績 当連結会計年度における世界経済は、米国では企業収益が好調で雇用や個人消費も高水準で推移しました。こうした状況下で、FRBは利上げを進めてきました。欧州では、Brexitや難民問題などの政治的課題を抱えるものの緩やかな景気回復が持続しました。中国では個人消費の拡大基調が続き、「中国製造2025」などの政策面での後押しもありハイテク系製造業の投資が加速してきました。しかし、米国の保護主義的な通商政策に伴う貿易摩擦に対する懸念から、将来の経済動向には不透明感が増しています。 わが国経済は、堅調な企業業績が持続し、失業率はバブル期以来の低水準となり、名目賃金が伸びるなど、景気の回復基調が続いています。 当社グループの主要販売先である半導体業界では、HPC(ハイパフォーマンスコンピューティング)やIoT(様々なものがインターネットにつながる)などの技術革新に伴う半導体需要の裾野の広がりから、半導体及び半導体製造装置市場は堅調な拡大が続きました。 当社グループが参入しているその他の事業領域に関しては、FPD(フラットパネルディスプレイ)業界において、中国における第10.5世代大型パネル向け投資が本格化しましたが、OLED(有機EL)を用いた中小型パネル向け投資は減速しました。…

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約66文字

【セグメント情報】 当社グループの事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、記載を省略しております。

リスクに関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業等のリスクの原文を表示

事業等のリスク

抜粋表示 / 原文長 約2587文字

2【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。 なお、文中における将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1)研究開発による影響 当社グループは、光、精密機械、エレクトロニクスを中心とした最先端技術の研究開発活動を継続的かつ積極的に実施しております。また、これらの技術を搭載した新製品を早期に市場投入することによって、当社グループが参入する各製品分野において上位の市場シェアと高い利益率の獲得に努めております。市場動向等には十分留意しておりますが、開発スケジュールや新製品投入タイミング等によっては、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (2)重要な人材の確保に関する影響 当社グループは、研究開発型企業であり将来への成長と成功のためには、開発技術部門の有能な人材の確保と育成が欠かせないものと考えております。そのため、貢献度を反映した評価制度や給与体系、有能な人材の積極的な採用と育成を心がけております。しかしながら、人材の確保と育成の状況や重要な人材の喪失が当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (3)市場変動による影響 当社グループの主要販売先は半導体関連企業であり、この市場の影響を受ける傾向にあります。当該市場は、技術革新が激しく、技術の変化により大きく成長する反面、需給バランスが崩れることによって市場規模が一時的に縮小することもあります。当社グループはこのような局面においても利益を生み出せるよう改革に積極的に取り組んでおります。しかしながら、予期せぬ市場規模の大幅な縮小や、技術の変化が、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (4)品質に関する影響 当社グループは、ISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、製品の完成度に万全の注意を払うとともに、高いレベルのサービス体制の確立に努めております。しかしながら、最先端技術を積極的に開発し、これを新製品に導入して早期に市場投入するよう努めていることから、未だ市場に浸透していない新しい技術も存在し、予期せぬ品質問題が生じた場合、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 (5)知的財産権に関する影響 当社グループは、独自技術の専有化、製品の差別化及び競争力強化のために、知的財産戦略を推進することにより、各製品分野における高い市場シェアと利益率の確保に努めております。しかしながら、当社グループの製品は多くの最先端技術が融合されていることもあり、第三者の技術や知的財産権の侵害を回避するための諸施策の実施が当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

抜粋表示 / 原文長 約2864文字

5【研究開発活動】 当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を高いレベルで融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術であり、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びFPDフォトマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されております。 新しい製品の開発にあたっては、顕微鏡の営業活動などを通じて幅広い業界、市場を調査し、新しいマーケットやアプリケーションを探し出し、それぞれ固有のニーズに合致した新製品を生み出すことを心がけております。 また既に製品を納入している多くのお客様や各種研究開発機関へのサービス・サポートを通じて、お客様の顕在化した要望のみならず、潜在的なニーズを正確につかみ、独創的な視点と技術でどこよりも早く問題解決の方法をご提供することが最重要であると考えております。 当社グループは、光学技術を追求する過程で、独自のコア技術を確立してまいりました。共焦点光学系、DUV (注) 光学系、EUV (注) 光学系、及び光干渉計技術などの光学技術を進化させ、高度な周辺技術との融合によって特徴ある製品を生み出しています。また、高精度高速ステージ開発のための精密機構技術、あるいは欠陥検出の画像処理技術などを継続的に深化させ、近年ではAI(人工知能)技術を応用した自動欠陥分類の開発を進めるなど、お客様のニーズに対してタイムリーにソリューションを提供できる研究・製品開発を進めております。 (注) DUV:Deep Ultraviolet、遠紫外線 EUV:Extreme Ultraviolet、極端紫外線 当連結会計年度における研究開発の成果として発売された新製品は次のとおりであります。 (1) 第10.5世代用FPDフォトマスク欠陥検査装置 CLIOS G10シリーズ及びCLIOS用ペリクル検査/貼り付けシステム 71PA CM 近年のFPD業界では、スマートフォンやタブレット端末に代表される中小型高精細ディスプレイ、4K・8K 高解像度大型テレビ等への対応が急務となっており、フォトマスクのパターンの微細化及び基板サイズの大型化が進展しています。また、中国における第10.5世代液晶ディスプレイ工場への投資が相次いだ事から、FPD用大型フォトマスク検査の必要性が更に高まりました。 当社グループでは、こうした市場のニーズに対応すべく、第10.5世代に対応したFPDフォトマスク欠陥検査装置、及びペリクル検査/貼り付けシステムの新製品を開発いたしました。 CLIOS G10シリーズ は、FPDの生産に使用される第10.5世代(2,000mm × 1,800mm)までの大型フォトマスクを高感度かつ高スループットで検査が可能です。…

設備投資等の概要

抽出本文 / 原文長 約333文字

2【主要な設備の状況】 当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。 (1) 提出会社 2018年6月30日現在 事業所名 (所在地) 設備の内容 帳簿価額(千円) 従業員数 (人) 建物及び 構築物 機械装置 及び運搬具 工具、器具及び備品 土地 (面積㎡) その他 合計 本社 (神奈川県横浜市 港北区) 開発・製造設備 統括業務設備 1,861,977 160,907 183,975 4,254,773 (4,872) 122,385 6,584,019 232 (注)1.帳簿価額の「その他」は、リース資産、及び建設仮勘定であります。 2.金額には消費税等は含まれておりません。 (2) 在外子会社 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

その他の有報本文

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配当政策

抽出本文 / 原文長 約633文字

3【配当政策】 当社は、安定的な利益還元を行うとともに、業績に応じた弾力的な配当政策を行い、連結での配当性向35%を目安とすることを利益配分に関する基本方針としております。 内部留保については、新技術・新製品の研究開発投資、業容の拡大に伴う設備投資、優秀な人材の獲得などに有効に活用し、企業体質の一層の強化と長期安定的な経営基盤の確立に役立てていく方針であります。 当社は、株主の皆様への利益還元の機会を充実させるため、剰余金の配当を、期末配当として年1回実施する方針から、中間配当と期末配当の年2回実施する方針に変更し、当事業年度(2018年6月期)より中間配当を実施しています。なお、当社は、「取締役会の決議により、毎年12月31日の最終の株主名簿に記載または記録された株主または登録株式質権者に対し、中間配当を行うことができる。」旨を定款に定めており、中間配当については取締役会、期末配当については株主総会が配当の決定機関となっております。 当事業年度の配当につきましては、1株当たり22円の配当を実施することに決定いたしました。 これにより当期の年間配当金は中間配当金(1株当たり12円)を含め1株当たり34円となります。 当事業年度に係る剰余金の配当は以下のとおりであります。 決議年月日 配当金の総額 (千円) 1株当たり配当額 (円) 2018年2月5日 取締役会決議 541,070 12 2018年9月26日 定時株主総会決議 991,960 22

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約426文字

5【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 2018年6月30日現在 従業員数(人) 332 (注)1.従業員数は就業人数であります。 2.当社グループの事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 (2)提出会社の状況 2018年6月30日現在 従業員数(人) 平均年令(才) 平均勤続年数(年) 平均年間給与(円) 232 43.2 11.7 11,129,756 (注)1.従業員数は就業人員であります。従業員数には、子会社への出向者(1名)は含まれておりません。 2.平均年間給与は、賞与及び時間外手当等の基準外賃金を含んでおります。 3.当社の事業は、検査・測定装置の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 (3)労働組合の状況 労働組合はありません。 有価証券報告書(通常方式)_20180927100010

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約8469文字

(1)【コーポレート・ガバナンスの状況】 (コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方) 当社は、「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」ことを創業の基本理念としております。お客様のさらなる強い信頼を獲得し企業力を向上させていくため株式公開を果たした後においても、この創業理念に変わりはありません。社会の変化に貢献できる顧客満足度の高い製品開発を継続し企業価値を高めていくこと、また、公開企業としての透明性を高め、経営の健全性を確保するための諸施策を積極的に取り入れ、株主、投資家の皆様から信頼される経営体制を確立し維持改善に努めていくことが、株主をはじめとするすべてのステークホルダーのご期待にこたえるものと認識しております。 ①企業統治の体制 (イ)次の(ロ)に記載する企業統治の体制を採用する理由 当社は、当社の人員及び事業の規模、また実際の監査が機能していることに鑑み、監査役会設置会社の制度を維持しております。また、上記のコーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方を背景に社外監査役に加えて社外取締役を選任するなど、企業の透明性、経営の健全性を高める施策を講ずるとともに、「内部統制基本方針」に即して、以下に記載する企業統治の体制を整備しております。 (ロ)企業統治の体制 (コーポレート・ガバナンス体制概念図) (取締役及び取締役会その他執行機関等) 当社の取締役会は取締役8名(定款では10名以内)で構成され、うち3名を社外取締役とし、法令・定款に定められた事項のほか、事業計画の決定その他重要な業務に関する事項を決議し、取締役の職務執行を監督しております。取締役の任期は1年であります。 取締役会は毎月1回(定例)開催するほか、必要に応じて臨時に開催し、会社の重要事項などの報告・決定を行うこととしております。 業務執行に係る重要案件については社長の諮問機関として経営会議を設置しており、月1回開催しております。このことにより、案件の決定の適正化を支援するとともに業務執行における意思統一を図っております。また、経営会議規定により監査役及び社外取締役の経営会議への出席権と意見陳述権を保障し、経営判断に対する監視・監督機能に漏れのない体制としております。 取締役の報酬については、決定プロセスの透明性と客観性を確保するため、社長の諮問機関として社外取締役、常勤監査役及び社長により構成される報酬委員会を設置しております。 (監査役及び監査役会) 監査役会は監査役3名(定款では4名以内)で構成され、うち2名を社外監査役とし、法令・定款で定められた事項のほか、監査の方針、監査計画、監査の方法等を定め、各監査役の監査状況の報告、監査意見の形成などを行っております。監査役会は毎月1回(定例)開催するほか、必要に応じて臨時開催しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約25文字

4【経営上の重要な契約等】 該当事項はありません。

大株主の状況

抜粋表示 / 原文長 約2219文字

(6)【大株主の状況】 2018年6月30日現在 氏名または名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(%) BBH FOR MATTHEWS JAPAN FUND (常任代理人株式会社三菱UFJ銀行) 4 EMBARCADEROCTR ST E 550 SAN FRANCISCOCALIFORNIA ZIP CODE:94111 (東京都千代田区丸の内2-7-1) 2,123 4.70 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 東京都中央区晴海1-8-11 2,009 4.45 内山 靖子 東京都港区 2,003 4.44 内山 洋 東京都渋谷区 1,741 3.86 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 東京都港区浜松町2-11-3 1,697 3.76 株式会社三菱UFJ銀行 東京都千代田区丸の内2-7-1 1,504 3.33 内山 秀 東京都港区 1,394 3.09 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY (常任代理人香港上海銀行東京支店) ONE LINCOLN STREET, BOSTON MA USA 02111 (東京都中央区日本橋3-11-1) 1,360 3.01 前田 せつ子 東京都渋谷区 1,293 2.86 UCHIYAMA HOLDINGS株式会社 東京都港区港区元麻布3-8-32 807 1.79 15,934 35.33 (注)1.上記のほか、当社が所有している自己株式2,054千株(発行済株式数に対する所有株式数の割合4.35%)があります。 2.上記の所有株式数のうち、信託業務に係る株式数は次のとおりであります。 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 2,009千株 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 1,697千株 3. 2017年 4 月21日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書の変更報告書において、みずほ証券株式会社他共同保有者計2名が2017年4月14日現在で以下の株式を保有している旨が記載されているものの、当社としては2018年6月30日現在における実質所有株式の確認ができませんでしたので、上記大株主の状況には含めておりません。 氏名又は名称 住所 保有株券等の数(株) 株券等保有割合(%) みずほ証券株式会社 東京都千代田区大手町一丁目5番1号 株式 43,600 0.09 アセットマネジメントOne株式会社 東京都千代田区丸の内一丁目8番 2 号 株式 2,552,000 5.41 4.…

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100E6G2 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2018
使用モデル
gemma4:12b

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