サステナビリティ
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/ 原文長 約2640文字
２【サステナビリティに関する考え方及び取組】 当社のサステナビリティに関する考え方及び取組は次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1）ガバナンス 当社を取り巻くサステナビリティに関するリスク及び機会とその対策案は、経営会議など社内執行会議体で審議され、重要課題については取締役会に付議・報告されます。 また、サステナビリティ課題への対応は、経営層から各種社内会議体などを通じて、実行組織として展開されます。 サステナビリティに関連するガバナンス体制図は次のとおりであります。 (2）リスク管理 当社では事業に重大な影響を与える事態の発生防止と、万一の発生時の損害・影響の最小化並びに事業の継続性及び事業の適正性の確保を目的に、リスク管理規程を定めています。 これに則りリスク全般を可視化し、重要度を分類したうえで予防と発生時の対策の整備を行い、対策の実施状況に対する担当取締役の監視とレビューを実施しております。 気候変動、人的資本などサステナビリティに関する主要なリスク及び機会については、リスクカテゴリーごとの主管部門が関連するリスク及び機会についての認識に努め、必要に応じ適切な会議体において確認評価し、その対応方針を審議・決定しております。 (3）戦略 ①人的資本 当社は、「薄膜・加工の技術とビジネスを極めるプロ集団となる」ことを企業理念として掲げております。私たちが提供する薄膜製品は、人々の暮らしを支え、豊かにしうるものです。モノづくりとテクノロジーの発展に寄与し、社会へ貢献することを第一義とし、時代のニーズを捉え、応えていくことが結果として企業の成長につながると考えています。成長の実現を目指すためには、全ての社員が組織と相互に信頼関係で結ばれ、薄膜のプロとしての自信と誇りを持ち、自律的に楽しく活き活きと働く事で成り立つと考えており、属性にとらわれず相手を尊重し建設的な意見を話し合える組織とすることを人材戦略の基本的な考え方としています。 ・人材の採用 事業計画との整合をとりながら、必要な時に必要な人材を採用する考え方のもと、国籍・性別にとらわれず各個人の能力にもとづく採用を進めています。モノづくりに魅力を持ち、高いコミュニケーション能力を発揮し、多様なステークホルダーとの継ぎ手となることの意識を有する人材、より高い次元を目指す人材を積極的に採用しています。 ・企業風土改革 ＶＵＣＡといわれる環境下において、企業が健全に成長するためには従業員のエンゲージメントを向上することが大事であることから、社長からの定期的な講話の実施（計５回）、経営と従業員の対話の場を設定しています。…
研究開発活動
抽出本文
/ 原文長 約816文字
(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ、モビリティ及び半導体・電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。 (3）研究開発活動における当事業年度の主要課題 当社は、成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、品目別に記載しております。 （ディスプレイ） ①低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発 ②フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立 （モビリティ） ①低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立 ②低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発 ③異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発 ④面発熱ヒーターの応用製品の開発 ⑤特定波長帯での広角高反射ミラーの開発 （半導体・電子部品） ①ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発 ②金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発 ③薄膜温度センサーおよび流量センサーの開発 ④紫外光透過透明導電膜の開発 ⑤放熱シートの開発 ⑥弾性波デバイス用音響多層膜の開発 （その他） ①プラズマプロセス技術の開発 ②高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発 ③高滑落性機能材料の開発 ④脱着構造体の開発 ⑤異形材料へのパターニング加工技術の開発 ⑥赤外光透過透明導電膜の開発 なお、当事業年度の研究開発費の総額は 303 百万円であります。 有価証券報告書（通常方式）_20230627101421
設備投資等の概要
抽出本文
/ 原文長 約602文字
２【主要な設備の状況】 当社における主要な設備は、次のとおりであります。 なお、当社は成膜加工関連事業の単一セグメントであるため、セグメントの名称に関する記載を省略しております。 2023年３月31日現在 事業所名 所在地 設備の内容 帳簿価額 従業員数[外、平均臨時従業員](人) 建物 （千円） 機械及び装置 （千円） 土地 （千円） (面積㎡) その他 （千円） 合計 （千円） 本社 横浜市西区 統轄業務施設 2,668 (－) 3,380 6,049 47 [3] 金成工場 宮城県栗原市 製造設備 182,794 776,967 187,611 (53,816) 34,921 1,182,294 229 [43] 赤穂工場 兵庫県赤穂市 製造設備 55,591 128,436 494,610 (46,478) 18,357 696,996 83 [43] Ｒ＆Ｄセンター 東京都大田区 研究開発施設 135,099 46,795 174,384 (866) 30,527 386,807 30 [1] 多摩川駐車場ほか 東京都大田区ほか 賃貸施設ほか 513 55,948 (6,142) 56,461 （注）１．帳簿価額のうち「その他」は、「構築物」「車両運搬具」「工具、器具及び備品」「建設仮勘定」であります。 ２．土地及び建物の一部を賃借しており、年間賃借料は59百万円であります。