研究開発活動
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(2) 研究開発活動の方針 当社は、地球、人類、技術の融合により明るく豊かな未来を創造するという企業理念のもと、価値ある薄膜と加工技術を提供することでものづくりとテクノロジーの発展に貢献することを使命としております。そのために、研究開発部門は幅広い分野への「真空成膜技術」の応用、要素技術開発並びに新製品の提供等を行ってまいりましたが、今後は、ディスプレイ・モビリティ・半導体及び電子部品の各事業領域での成長を支えるコア技術の創出に注力すると同時に、製造技術も真空成膜をベースとしつつ応用や製法の多角化にも取り組んでいく方針であります。 (3）研究開発活動における当連結会計年度の主要課題 当社グループは、真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、品目別に記載しております。 （ＦＰＤ用基板） ①曲面基板への成膜加工技術の開発 ②低反射メタルメッシュ電極の材料開発及び加工技術開発 ③フレキシブルディスプレイ用、極薄フィルム基板の仮固定及び剥離技術の確立 （その他） ①車載ディスプレイ向け反射防止膜の量産化技術確立 ②低反射フィルム（g.moth®）の生産技術確立 ③低反射フィルム（g.moth®）の応用製品開発 ④高出力レーザー向けレンズの開発 ⑤ファンアウト・パネルレベルパッケージ用微細回路形成材料の量産技術開発 ⑥セミアディティブプロセスによる微細回路形成技術の開発 ⑦プラズマプロセス技術の開発 ⑧高耐久性の超撥水膜・親水膜の開発 ⑨高滑落性機能材料の開発 ⑩５Ｇ向け配線材料の開発 ⑪異形材料への面発熱ヒーター加工技術の開発 ⑫面発熱ヒーターの応用製品の開発 ⑬異形材料へのパターニング加工技術の開発 ⑭金属抵抗式薄膜ひずみゲージ形成技術の開発 ⑮薄膜温度センサーおよび流量センサーの開発 なお、当連結会計年度の研究開発費の総額は 274 百万円であります。 有価証券報告書（通常方式）_20210624143252
設備投資等の概要
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２【主要な設備の状況】 当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。 なお、当社グループは真空成膜関連製品等の製造、販売を行う単一セグメントであるため、セグメントの名称に関する記載を省略しております。 (1）提出会社 2021年３月31日現在 事業所名 所在地 設備の内容 帳簿価額 従業員数[外、平均臨時従業員](人) 建物及び構築物 （千円） 機械装置及び運搬具 （千円） 土地 （千円） (面積㎡) その他 （千円） 合計 （千円） 本社 横浜市西区 統轄業務施設 4,988 ( － ) 2,413 7,401 44 [ 5] 金成工場 宮城県栗原市 製造設備 460 89,955 187,611 (53,816) 61,456 339,483 233 [39] 赤穂工場 兵庫県赤穂市 製造設備 20,305 494,610 (46,478) 19,657 534,573 89 [37] Ｒ＆Ｄセンター 東京都大田区 研究開発施設 144,631 80,001 174,384 (866) 64,966 463,983 32 [ 1] 多摩川駐車場ほか 東京都大田区ほか 賃貸施設ほか 55,948 (6,142) 55,948 （注）１．帳簿価額のうち「その他」は、「工具、器具及び備品」及び「建設仮勘定」であります。なお、金額には消費税等を含めておりません。 ２．土地及び建物の一部を賃借しており、年間賃借料は56百万円であります。 (2）在外子会社 2021年３月31日現在 会社名 事業所名 所在地 設備の内容 帳簿価額 従業員数[外、臨時従業員] （人） 建物及び構築物 （千円） 機械装置及び運搬具 （千円） 土地 （千円） (面積㎡) その他 （千円） 合計 （千円） 吉奥馬科技(無錫)有限公司 本社工場 中国江蘇省無錫市 製造設備 125,134 (－) 39,297 164,432 146 [－] （注） 帳簿価額のうち「その他」は、「工具、器具及び備品」、「使用権資産」及び「建設仮勘定」であります。