株式会社RS Technologies

証券コード: 3445 / 対象年度: 2016 / 提出日: 2017-03-29
業種 金属製品

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

AI・自動処理による整理を含むため、誤りや不完全な表現が含まれる場合があります。 重要な情報はEvidenceやEDINET等の一次資料をご確認ください。 投資判断ではなく、企業理解の入口としてご利用ください。

業種から企業を探す

同じ「金属製品」の企業

同じ業種の企業をすべて見る

3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

半導体製造工程で使用されるシリコンウェーハの再生・販売、酸化膜成膜加工サービス、および中古の半導体生産設備の買取・販売を行う企業です。特にモニタウェーハの再利用によるコスト削減と品質維持を両立する技術を持ち、グローバルな半導体市場に対応しています。

主な事業領域

シリコンウェハー再生事業(モニタウェーハの洗浄・研磨等)、シリコンウェーハ販売事業、酸化膜成膜加工サービス、中古半導体生産設備の買取・販売、および太陽光発電や関連材料販売などの多角的な事業を展開。

主な製品・サービス

  • シリコンウェーハ再生(ストリッピング、エッチング、研磨等)
  • シリコンウェーハ販売
  • 酸化膜成膜加工サービス
  • 中古半導体生産設備の買取・販売
  • 太陽光発電事業
  • 半導体関連材料販売

ビジネスモデル

半導体製造工程で発生するモニタウェーハを回収し、洗浄・研磨等の加工を経て再利用可能な状態に再生することで、顧客のコスト削減と品質維持を実現。また、中古設備の一括プロデュース(解体・搬出・輸送等)により収益を得る。

セグメント・事業構成

「ウェーハ事業」(シリコンウェーハ再生・販売、酸化膜成膜加工)、「半導体生産設備の買取・販売」、および「その他」(ソーラー事業、関連材料販売、技術コンサルティング)の3つに区分される。

戦略・方向性

最先端微細化技術(12インチ/300mm、18インチ/450mm)への対応、海外取引の強化、大手メーカーとの安定的な取引確保、および高度な知識を持つ人材の確保と海外進出を推進。

強みとして読み取れる点

  • モニタウェーハを高品質に再生する技術力
  • 中古設備の解体から搬入までの一括プロデュース能力
  • グローバルな販売ネットワーク(特に台湾や中国市場への対応)

課題として読み取れる点

  • 最先端微細化技術および18インチウェーハの技術革新への対応
  • 高度な知識・技能を有する人材の確保
  • 海外における需要への迅速な対応のための拠点展開

確認ポイント

  • 次世代(18インチ/450mm)ウェーハ再生技術の開発進捗
  • 主要な半導体メーカーとの取引関係の深化度
  • 海外拠点の拡大と生産体制の強化

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、セグメント構成、課題、顧客情報が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

主要なリスク:特定取引先(TSMC)への高い売上依存、半導体市場の需給・価格変動による影響、競合激化。対応策:生産効率向上によるコスト削減、顧客層の拡大。その他:外注先の品質管理、設備投資に伴う減価償却費負担と資金調達リスク、為替変動(海外売上高比率が高い)、特定個人への経営依存、事故・災害による操業停止、および財務制限条項への抵触リスク。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

半導体ウェーハの再生・販売および関連機器の取引を行う企業。TSMC等の主要顧客との関係を維持しつつ、高度な微細化技術(12インチ、18インチ)への対応と海外展開の強化により、次世代半導体市場での成長を目指す。

成長方針

12インチ・18インチウェーハの高度な再生技術の開発と事業化、海外市場(米国、欧州、台湾等)での取引強化、および半導体関連製品の販売拡大による収益源の多様化。

資本政策

コミットメント期間付シンジケートローンによる設備投資資金の確保。財務制限条項(純資産維持、経常利益確保)を伴う借入契約に基づく安定的な経営基盤の構築。

リスク対応方針

特定顧客への依存度の低減に向けた多角的な販路開拓、生産効率向上によるコスト削減、設備投資と財務体質の強化を通じたリスク分散。また、災害や事故に対する安全管理体制の整備。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

同社は、半導体製造工程で発生するシリコンウェーハの再生・加工を行う高度な技術力を有する企業。次世代の300mmハイエンド向けおよび450mm(18インチ)への対応を戦略的課題として掲げており、積極的な設備投資と研究開発を通じて競争優位性を確保しようとしている。TSMCへの依存度は高いものの、半導体市場全体の成長と技術革新の波に乗る位置にあり、将来の高度集積化に対応する体制構築が鍵となる。

設備投資の方向性

三本木工場および台湾工場の生産設備・研究開発設備への投資を継続。特に、次世代の300mmハイエンド向け再生技術および18インチ(450mm)ウェーハ対応に向けた設備拡充に注力。

研究開発・商品開発

シリコンウェーハの回収率向上(収率向上)、研磨工程におけるパーティクル低減、および次世代規格である450mmウェーハの再生加工技術の研究開発を実施。年間約8,500万円の研究開発費を投入。

投資・変化テーマ

  • 半導体ウェーハ再生技術
  • 微細化技術への対応
  • 18インチ(450mm)ウェーハ対応
  • 海外市場拡大
  • 生産設備・部材の販売

関連キーワード

  • シリコンウェーハ
  • リサイクル
  • 研磨工程
  • 300mm/200mmウェーハ
  • 450mmウェーハ
  • 高度集積化
  • 技術コンサルティング

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分連結 対象期間2016-01-01 〜 2016-12-31 表示状況表示可能

提出日: 2017-03-29

財務情報

業績

売上高

88.5億円
根拠・定義
正式ラベル
売上高
section key
performance
metric_key
revenue
meaning_id
revenue.net_sales
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#338
source concept
NetSales
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

営業利益

15.58億円
根拠・定義
正式ラベル
営業利益又は営業損失
section key
performance
metric_key
operating_profit
meaning_id
profit.operating
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#346
source concept
OperatingIncome
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

経常利益

14.51億円
根拠・定義
正式ラベル
経常利益又は経常損失
section key
performance
metric_key
ordinary_profit
meaning_id
profit.ordinary_jgaap
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#366
source concept
OrdinaryIncome
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

税引前利益

14.55億円
根拠・定義
正式ラベル
税引前利益又は税引前損失
section key
performance
metric_key
profit_before_tax
meaning_id
profit.before_tax
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#380
source concept
IncomeBeforeIncomeTaxes
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

親会社帰属利益

8.7億円
根拠・定義
正式ラベル
親会社の所有者に帰属する当期利益(損失)
section key
performance
metric_key
net_income
meaning_id
profit.owners_parent
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#390
source concept
ProfitLossAttributableToOwnersOfParent
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

財政状態・流動性

総資産

108.59億円
根拠・定義
正式ラベル
資産合計
section key
balance_and_liquidity
metric_key
total_assets
meaning_id
assets.total
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#284
source concept
Assets
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-8b9304849925dcaa

純資産

35.41億円
根拠・定義
正式ラベル
純資産合計
section key
balance_and_liquidity
metric_key
net_assets
meaning_id
equity.net_assets_jgaap
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#334
source concept
NetAssets
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-8b9304849925dcaa

株主資本

35.38億円
根拠・定義
正式ラベル
株主資本
section key
balance_and_liquidity
metric_key
equity
meaning_id
equity.shareholders_equity
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#326
source concept
ShareholdersEquity
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-8b9304849925dcaa

現金及び現金同等物

17.14億円
根拠・定義
正式ラベル
現金及び現金同等物
section key
balance_and_liquidity
metric_key
cash
meaning_id
cash.cash_and_cash_equivalents
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#590
source concept
CashAndCashEquivalents
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-8b9304849925dcaa

キャッシュフロー

3区分

営業CF

+9.64億円
根拠・定義
正式ラベル
営業活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
operating_cf
meaning_id
cash_flow.operating
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#544
source concept
NetCashProvidedByUsedInOperatingActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

投資CF

-7.76億円
根拠・定義
正式ラベル
投資活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
investing_cf
meaning_id
cash_flow.investing
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#562
source concept
NetCashProvidedByUsedInInvestmentActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

財務CF

-91,211,000円
根拠・定義
正式ラベル
財務活動によるキャッシュ・フロー
section key
cash_flow
metric_key
financing_cf
meaning_id
cash_flow.financing
label source
meaning_registry
label resolution
resolved
Registry status
stable
availability
主要値
visibility
表示対象
Fact ID
XBRL/PublicDoc/jpcrp030000-asr-001_E31042-000_2016-12-31_01_2017-03-29.xbrl#582
source concept
NetCashProvidedByUsedInFinancingActivities
framework
jgaap
scope
consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
presentation role
primary_statement
reporting basis
reporting-basis-945c06fd62e05d68
reporting slice
reporting-slice-b22d4b6288e59c7b

財務項目の関係

資本項目の関係

異なる値・別Fact
根拠・定義
relation state
different_value
source relation key
different_value

確認事項

開示上の確認事項

この表示に確認事項はありません。

文書情報を確認
doc_id
S1009ZDU
framework
日本基準 / jgaap
scope
連結 / consolidated
period
2016-01-01 〜 2016-12-31
表示状況
表示可能
選定状況
表示可能
raw presentation state
ready
raw selection status
ready

有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約2388文字

3 【事業の内容】 当社グループは、当社及び艾爾斯半導體股份有限公司(連結子会社)の2社により構成されております。 当社グループは「地球環境を大切にし、世界の人々に信頼され、常に創造し挑戦する。」という経営理念に基づき事業活動を展開しております。 当社グループの主要な事業であるシリコンウェーハ再生事業は、ラサ工業株式会社が25年間世界の半導体製造会社にサービスを提供してきた事業を引き継いだものであり、半導体製造過程で発生するモニタウェーハ(※1)の再生を行う事業であります。シリコンウェーハの再生は、半導体製造工程の特徴及び製造コストの面から需要が発生するものであり、新興国の経済発展及び先進国の更なるデバイス用途(車・医療・環境・家・町・M2M・IoT)の広がり等を背景とした半導体需要の増加ととともに需要が拡大しております。当社グループは、国内外の半導体製造会社を取引先とし、大手ファウンドリを含めグローバルに販売活動を実施しており、艾爾斯半導體股份有限公司(連結子会社)と両社で行っております。また、シリコンウェーハ再生事業の他、ウェーハ事業としてシリコンウェーハ販売事業、酸化膜成膜加工サービス事業、半導体生産設備の買取・販売事業、その他の事業として太陽光発電事業、半導体の関連材料販売等を実施しております。 ※1 モニタウェーハ : 半導体製造過程のモニタリングを実施するために使用するウェーハ 当社グループの事業とセグメント情報の区分との関連は下表の通りです。 セグメントの名称 事業の内容 ウェーハ事業 シリコンウェーハ再生事業及び販売事業 酸化膜成膜加工サービス事業 半導体生産設備の買取・販売 中古の半導体関連装置、消耗材の販売事業 その他 ソーラー事業、半導体の関連材料販売、技術コンサルティング等 それぞれの主要な事業の特徴は以下の通りであります。 (1)ウェーハ事業 ① シリコンウェーハ再生事業 シリコンウェーハ再生事業は、半導体製造会社から使用済みのシリコンウェーハを預かって加工し、使用可能な状態にする事業です。加工は主に「ストリッピング・エッチング(ウェーハ表面膜の除去)」、「プレソート検査(中間検査)」、「ポリッシング(研磨)」、「1次洗浄」、「2次洗浄」、「最終検査」、という工程を経て実施されます。加工によりほぼ新品と同等の品質で再生できるため、いわばシリコンウェーハのクリーニング事業といえます。 当社グループのシリコンウェーハ再生事業のビジネスモデルを示すと下図のとおりであります。 シリコンウェーハの再生は、半導体製造過程の以下のような特徴から需要が発生します。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抽出本文 / 原文長 約651文字

3 【対処すべき課題】 当社グループの主要な事業であるシリコンウェーハの再生事業は、半導体市場の影響を受けます。足許において、世界の長期的な半導体需要は増加傾向にあり、半導体メーカーからの需要も増加しております。このような状況の下、当社グループとしては国内国外を問わず半導体メーカーの需要を取り込む必要があります。また、日々進歩している微細化技術の開発や18インチ(450㎜)ウェーハの開発等の技術革新にも対応していく必要もあります。 これらを踏まえたうえで、当社グループは以下の事項を対処すべき課題として認識しております。 (1) 技術開発 ① 世界最先端の微細化技術に適応する12インチ(300㎜)ハイエンド向け再生技術を開発、事業化すること。 ② 18インチ(450㎜)ウェーハの再生技術を開発、事業化すること。 (2) 営業施策 ① アメリカ・欧州・台湾・シンガポール・中国・韓国をはじめとする海外との取引を更に強化すること。 ② 大手半導体デバイスメーカーとの安定的取引を確保すること。 ③ モニタウェーハ及びターゲット材(※)・ケミカル消耗品の販売を強化すること。 ④ 半導体関連商品の販売を強化すること。 (3) 製造体制 ① 半導体デバイスの高集積度化に対応すること。 ② 最先端設備を拡充すること。 ③ 高度な知識・技能を有する人材を確保すること。 (4) 海外進出 ① 主要な半導体メーカーの需要に適時に対応するため海外進出をすること。 ※ターゲット材 半導体を加工する時の補助材料

対処すべき課題

抽出本文 / 原文長 約651文字

3 【対処すべき課題】 当社グループの主要な事業であるシリコンウェーハの再生事業は、半導体市場の影響を受けます。足許において、世界の長期的な半導体需要は増加傾向にあり、半導体メーカーからの需要も増加しております。このような状況の下、当社グループとしては国内国外を問わず半導体メーカーの需要を取り込む必要があります。また、日々進歩している微細化技術の開発や18インチ(450㎜)ウェーハの開発等の技術革新にも対応していく必要もあります。 これらを踏まえたうえで、当社グループは以下の事項を対処すべき課題として認識しております。 (1) 技術開発 ① 世界最先端の微細化技術に適応する12インチ(300㎜)ハイエンド向け再生技術を開発、事業化すること。 ② 18インチ(450㎜)ウェーハの再生技術を開発、事業化すること。 (2) 営業施策 ① アメリカ・欧州・台湾・シンガポール・中国・韓国をはじめとする海外との取引を更に強化すること。 ② 大手半導体デバイスメーカーとの安定的取引を確保すること。 ③ モニタウェーハ及びターゲット材(※)・ケミカル消耗品の販売を強化すること。 ④ 半導体関連商品の販売を強化すること。 (3) 製造体制 ① 半導体デバイスの高集積度化に対応すること。 ② 最先端設備を拡充すること。 ③ 高度な知識・技能を有する人材を確保すること。 (4) 海外進出 ① 主要な半導体メーカーの需要に適時に対応するため海外進出をすること。 ※ターゲット材 半導体を加工する時の補助材料

セグメント関連

抜粋表示 / 原文長 約1904文字

3.報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産、負債その他の項目の金額に関する情報 前連結会計年度(自 平成27年1月1日 至 平成27年12月31日) (単位:千円) 報告セグメント その他 (注)1 合計 調整額 (注) 2 連結財務諸表計上額 (注)3 ウェーハ事業 半導体生産設備の買取・販売 売上高 外部顧客への売上高 5,107,008 156,324 5,263,333 282,166 5,545,500 5,545,500 セグメント間の内部売上高又は振替高 216,580 216,580 216,580 △ 216,580 5,107,008 372,905 5,479,913 282,166 5,762,080 △ 216,580 5,545,500 セグメント利益 1,386,332 135,389 1,521,721 29,046 1,550,767 △ 469,459 1,081,308 セグメント資産 6,993,213 42,062 7,035,276 533,090 7,568,366 2,169,371 9,737,737 その他の項目 減価償却費 306,459 306,459 15,597 322,056 4,262 326,319 減損損失 有形固定資産及び無形固定資産の増加額 4,515,369 4,515,369 149,728 4,665,097 225 4,665,322 (注)1.「その他」の区分は、報告セグメントに含まれない事業セグメントであり、ソーラー事業、半導体の関連材料販売と技術コンサルティングであります。 2.調整額は以下のとおりであります。 (1)セグメント利益の調整額 △469,459千円 にはセグメント間取引消去 △116,094千円 、各報告セグメントに配 分していない全社費用 △353,364千円 が含まれております。 (2)セグメント資産の調整額は、各報告セグメントに配賦していない全社資産であります。 全社資産は主に報告セグメントに帰属しない現金及び預金並びに管理部門に係る資産等であります。 (3)減価償却費の調整額は、全社資産に係る減価償却費であります。 (4)有形固定資産及び無形固定資産の増加額の調整額は、全社資産に係る増加額であります。 3.セグメント利益は連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。 4.セグメント間の売上高は、第三者間取引価格に基づいております。…

主要な顧客・販売先

抽出本文 / 原文長 約600文字

(3) 販売実績 販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称 当連結会計年度 (自 平成28年1月1日 至 平成28年12月31日) 前年同期比(%) ウェーハ事業 (千円) 7,144,349 +39.9 半導体生産設備の買取・販売 (千円) 1,611,627 +931.0 その他 (千円) 93,568 △66.8 合計(千円) 8,849,546 +59.6 (注)1.主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりです。 相手先 前連結会計年度 (自 平成27年1月1日 至 平成27年12月31日) 当連結会計年度 (自 平成28年1月1日 至 平成28年12月31日) 金額(千円) 割合(%) 金額(千円) 割合(%) Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.,Ltd 1,472,362 26.6 1,823,174 20.6 Success Trading Co.,LTD 63,712 1.1 1,410,654 15.9 株式会社東芝 ストレージ&デバイスソリューション 526,830 9.5 1,323,752 15.0 ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社 643,024 11.6 842,149 9.5 2.上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

リスクに関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業等のリスクの原文を表示

事業等のリスク

抜粋表示 / 原文長 約1350文字

4 【事業等のリスク】 本書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。また、以下の記載は投資に関連するリスクを全て網羅するものでない点に留意する必要があります。なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 特定の取引先への依存に関するリスク 当社グループは、世界有数の半導体受託生産企業であるTaiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd(TSMC)との円滑な取引を継続しており、同社に対する売上高が当社グループの売上高に占める割合は、前連結会計年度26.6%、当連結会計年度20.6%と高い割合となっております。 従って、同社の販売及び設備投資の動向によっては当社グループの短期的な経営成績に影響を与える可能性があります。 (2) 業界動向に関するリスク 当社グループの主な需要先は半導体業界であります。需給の変動があった場合、シリコンウェーハの使用量の減少や販売価格の低下により当社グループの経営成績に影響を与える可能性があります。 (3) 他社との競合に関するリスク 当社グループの主たる事業領域である半導体市場は、国内外を問わず厳しい競合環境にあり、同業他社との間では価格、品質、顧客対応能力、新製品開発力等、様々な局面での競争が展開されています。 当社グループは、ウェーハ事業において高い価格競争力を有する様々なテスト用半導体ウェーハを手掛けることにより、収益源を確保すると共に半導体需給や技術動向の把握及び顧客層や製品分野の拡大を図っていますが、高シェア製品の市場支配力が低下することにより競争上の地位が低下した場合、当社グループの事業、経営成績及び財政状態に影響を与える可能性があります。 (4) 外注先の品質管理に関するリスク 当社グループは、ウェーハ事業の加工工程を外部企業に一部委託しています。当社グループでは、委託先企業の経営状況、技術水準、製造能力について継続的に監視していますが、委託先企業が、必要な技術的・経済的資源を維持するとともに十分な製品の品質を保ち、当社グループが求める水準の委託業務を遂行できる保証はありません。 また、これらの委託先において何らかの理由により事業が中断された場合、当社グループ製品の加工及び製品の供給に影響を与える可能性があります。 (5) 加工工程に関するリスク 当社グループの主たる事業領域である半導体市場では、製品価格が継続的に低下する傾向にあります。…

投資・研究開発に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

抽出本文 / 原文長 約224文字

6 【研究開発活動】 当社グループの研究開発活動は、ウェーハ事業においてシリコンウェーハの再生における顧客から預かったウェーハをより多く製品化して返却する収率向上のための研究開発を行っております。今後、顧客ニーズにこたえるために研磨工程で必要な300mmウェーハのパーティクルの向上を図るとともに、450mmウェーハの再生加工技術の研究開発を行う予定であります。当連結会計年度における当社が支出した研究開発費の総額は 85,516千円 であります。

設備投資等の概要

抜粋表示 / 原文長 約1835文字

(6) 設備投資及び資金調達に関するリスク 当社グループは、市場動向、需要動向等を見極めながら、事業戦略及び当該投資の収益性等を勘案しつつ必要な設備投資を実施していく方針です。 大規模な設備投資を行った場合、製造ラインの調整等を行う必要があることから、本格的な生産に至るまでには一定の期間を要するため、製造設備の新設・増設に伴う立上げ費用や減価償却費が先行的に発生することになります。 また、多額の設備投資を実施した場合、減価償却費等が大幅に増加する可能性があります。 これらの要因により、今後当社グループの利益率が大幅に悪化する可能性があります。また、当該設備投資を行う際に想定していた受注を期待通りに獲得できなかった場合には、当社グループの経営成績等は重大な影響を受ける可能性があります。 また、当社グループは、事業展開の必要に応じて機動的な資金調達を実施していく方針ですが、当該資金調達に際しては、当社グループの財政状態、収益性等のほか、金利水準や市場環境等の要因により、当社グループが希望する時期または条件により資金調達を実行できない場合があり、そのような場合には、必要な設備投資を行うことができず、事業計画等において想定していた収益を上げられない可能性があり、当社グループの事業、経営成績及び財政状態に重大な影響を与える可能性があります。 (7) 為替の変動に関するリスク 当社グループの海外売上高比率は、前連結会計年度62.7%、当連結会計年度61.4%と高い水準で推移しております。また、当社グループの外貨建ての資産及び負債の評価は為替相場の変動により影響を受けております。このため、為替相場の急激な変動によっては当社グループの経営成績に影響を与える可能性があります。 (8) 特定人物への依存に関するリスク 現在、当社グループの経営は代表取締役社長である方永義を含めた9名の取締役(就任予定1名含む)と3名の監査役で構成される経営陣で運営されており、代表取締役社長である方永義個人に依存した組織ではありません。しかしながら、同氏は、前職(株式会社永輝商事代表取締役)までの経営者としての経験・人脈を生かし、当社グループの新規営業先の開拓、グローバルな事業展開において重要な役割を果たしております。同氏への依存を軽減するための経営構造の変革過程で、何らかの理由により同氏の業務遂行が困難となった場合には、当社グループの業績に重要な影響を与える可能性があります。 (9) 事故、災害等による操業への影響に関するリスク 当社グループの生産設備の中には、ウェーハ事業の炉など高温、高圧での操業を行なっている設備があります。また、ウェーハを加工するうえで多量の化学薬品等を取り扱っています。…

その他の有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

補足セクションの有報本文を表示

配当政策

抽出本文 / 原文長 約465文字

3 【配当政策】 株主に対する利益の還元は、当社にとって最も重要な経営の課題として認識しており、配当に関しては、各事業年度における利益水準、中期計画の見通し、財務体質の強化等の状況を総合的に勘案した上で、柔軟に実施していく方針であります。 当事業年度に係る剰余金の配当は以下のとおりであります。なお、1株あたり配当額は普通配当5円と当社東京証券取引所市場第一部への市場変更を記念して、記念配当5円としております。また、次期の配当につきましては、現時点では未定であります。 決議年月日 配当金の総額(千円) 1株あたり配当額(円) 平成29年3月29日 株主総会決議 55,048 10 なお、平成29年3月29日開催の定時株主総会において定款の変更が決議されたことにより、会社法第459条第1項に基づき、法令に別段の定めのある場合を除き、取締役会の決議をもって剰余金の配当等を行うことができる旨を定款に定めております。また、会社法第454条第5項に基づき、取締役会の決議をもって中間配当を行うことができる旨を定款に定めております。

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約388文字

5 【従業員の状況】 (1) 連結会社の状況 平成28年12月31日現在 セグメントの名称 従業員数(名) ウェーハ事業 351 (152) 半導体生産設備の買取・販売事業 ( - ) その他 ( - ) 全社(共通) ( - ) 合計 373 (152) (注)1.従業員数は就業人員(当社グループから当社グループ外への出向者を除く。)であり、臨時雇用者数(人材会社からの派遣社員)は、当連結会計年度の平均人員を( )外数で記載しております。 2.前連結会計年度末に比べ従業員数が108名増加しております。主な理由は、台南工場の本稼働に伴う期中採用によるものであります。 3.前連結会計年度に比べ臨時雇用者数の平均人員が22名増加しております。主な理由は、台南工場の本稼働に伴う期中採用によるものであります。 4.全社(共通)は、管理部門及び経営企画部門の従業員であります。

コーポレート・ガバナンス

抜粋表示 / 原文長 約7558文字

(1) 【コーポレート・ガバナンスの状況】 当社グループは、経営理念「地球環境を大切にし、世界の人々に信頼され、常に創造し挑戦する。」とコンプライアンスの重要性をコーポレート・ガバナンスの基本的な考え方としております。さらに、「株主の権利を重視すること」「社会的信頼に応えること」「持続的な成長と発展」が重要であるとの認識に立ち、コーポレート・ガバナンスの強化に努めております。 ① 企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由 当社は会社機関として、取締役会制度・監査役会制度を採用しております。 取締役会は、取締役9名(うち社外取締役3名)で構成され、当社の業務執行を決定し、取締役の職務の執行を監督する権限を有しております。会社法及び定款で定められた事項並びに当社の経営に関する重要事項等について審議・決定する機関として、原則として毎月1回開催しております。また、取締役及び部室長で構成された経営会議を取締役会の日程に合わせて実施しております。経営会議においては事業・営業に関する重要事項の報告と活発な論議を通じ、意思疎通及び情報共有を図っております。 監査役会は監査役3名(すべて社外監査役)で構成され、ガバナンスのあり方とその運営状況を監視し、取締役の職務執行を監査しております。各監査役は取締役会への出席、重要な書類の閲覧などを通じて経営全般に関する幅広い検討を行うとともに、毎月開催される監査役会において情報を共有し実効性の高い監査を効率的に実施するよう努めております。 当社は、経営判断の迅速性の確保、経営効率の向上及び取締役相互間の監査体制に実効性を持たせており、取締役の業務執行の適法性、妥当性への牽制機能は、社外監査役の取締役会への出席・意見陳述や日常の監査により確保できているとの認識により、現状の体制を採用しております。 ② その他の企業統治に関する事項 a. 業務の適正を確保するための体制の整備に関する事項 当社グループは以下のとおり「内部統制システムの整備及び運用に関する基本方針」を定め、業務の適正を確保するための体制を整備しております。 内部統制システムの整備に関する基本方針 ア.当社グループの取締役及び使用人の職務執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制並びに当社グループの損失の危険の管理に関する規程その他の体制 (ア)当社取締役会は、経営リスクのマネジメントを行い、全社的な内部統制システムの整備の推進及び緊急時(重大なコンプライアンス違反、甚大な被害が生じた災害等)の危機対応を行います。なお、これらの事項を決議する当社取締役会には、当社の顧問弁護士等の社外の専門家の出席を要請し、決議内容の公正性を担保するものとします。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約803文字

5 【経営上の重要な契約等】 (1) 建物等の賃貸借に関する契約 貸主 物件の内容 契約締結日 契約内容 契約期間 ラサ工業株式会社 三本木工場 建物 附属駐車場 膜前処理水タンク 膜前処理施設 重油タンク等付属施設 工場緑地 平成26年11月1日 建物賃貸借 平成26年11月1日から 平成32年12月31日まで(注) 以後5年ごとの自動更新 (2) 連結子会社の土地賃貸借に関する契約 契約会社名 相手先の名称 相手先の所在地 物件の内容 契約締結日 契約内容 契約期間 艾爾斯半導體股份有限公司 科技部南部科學工業園區管理局 中華民国 (台湾) 台南市 台湾台南市サイエンスパーク内工場用地 平成26年7月11日 土地賃貸借 平成26年7月11日から平成46年7月10日まで (3) コミットメント期間付シンジケートローン契約 設備投資資金借入のため平成26年3月25日付で主要取引銀行5行とコミットメント期間付シンジケートローン契約を締結し借入を実行いたしました。 当契約の概要は次のとおりであります。 ① 借入先 株式会社三菱東京UFJ銀行、株式会社三井住友銀行、株式会社りそな銀行、株式会社商工組合中央金庫、株式会社仙台銀行 ② 当初借入金額 5,126,811千円 ③ 当連結会計年度末現在借入実行残高 2,101,538千円 ④ 契約日 平成26年3月25日 ⑤ 借入期間 平成26年8月29日から平成33年12月30日 ⑥ 財務制限条項 a.借入人は、借入人の各年度の決算期の末日における借入人の単体の貸借対照表における純資産の部の金額を、当該決算期の直前の決算期の末日又は平成24年12月期に終了する決算期の末日いずれか大きい方の75%以上に維持すること。 b.借入人は、借入人の各年度の決算期にかかる借入人の単体の損益計算書上の経常損益に関して、2期連続して経常損失を計上しないこと。

大株主の状況

抽出本文 / 原文長 約1018文字

(7) 【大株主の状況】 平成28年12月31日現在 氏名又は名称 住所 所有株式数 (千株) 発行済株式総数に対する所有株式数の割合(%) R.S.TECH HONG KONG LIMITED (常任代理人 方 永義) G/F.,45 Tung On Street, Yau Ma Tei, Kowloon.,Hong Kong (東京都品川区) 2,380 43.23 方 永義 東京都品川区 542 9.85 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 東京都中央区晴海1-8-11 273 4.96 RIHUI (Hong Kong)Investment Trading Limited(常任代理人 山下 健伸) SUITE 1015,10/F,PARK-IN COMMERCIAL CENTER 56DUNDAS STREET,MONKOK KOWLOON HONG KONG(東京都品川区) 255 4.64 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 港区浜松町2丁目11番3号 171 3.12 フューチャーエナジー株式会社 群馬県藤岡市白石178-4 170 3.09 那須マテリアル株式会社 栃木県大田原市北金丸2122 170 3.09 日本バルカー工業株式会社 品川区大崎2丁目1-1 150 2.72 李 宗根 東京都品川区 78 1.42 本郷 邦夫 東京都中野区 72 1.32 4,263 77.45 (注)1.発行済株式総数に対する所有株式数の割合は、小数点以下第3位を四捨五入しております。 2.上記の所有株式数のうち、信託業務に係る株式数は、次のとおりであります。 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 171千株 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 273千株 3.平成28年9月7日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書の変更報告書において、フィデリティ投信株式会社が平成28年8月31日現在で以下の株式を所有している旨が記載されているものの、当社として当事業年度末現在における実質所有株式数の確認ができませんので、上記大株主の状況には含めておりません。 なお、大量保有報告書の内容は以下のとおりであります。 氏名又は名称 住所 保有株券等の数(千株) 株券等保有割合 (%) フィデリティ投信株式会社 東京都港区六本木七丁目7番7号 205 3.77

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S1009ZDU 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2017
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

本ページは、有価証券報告書の内容をもとに自動生成した企業理解用のページです。 内容の正確性・完全性を保証するものではありません。

投資判断を行う場合は、必ずEDINETの原文、有価証券報告書、決算短信、 会社公表資料などをご確認ください。

ランダム