株式会社ホロン

証券コード: 7748 / 対象年度: 2020 / 提出日: 2020-06-25
業種 精密機器 上場廃止

現在、過去年度の有価証券報告書に基づく分析を表示しています。

このページは、EDINETに提出された有価証券報告書をもとに、 企業のリスク認識・投資領域・経営方針を自動整理したものです。

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3分で読める事業概要

有価証券報告書の記載内容をもとに、事業内容・主なサービス・確認ポイントを自動整理した参考情報です。

事業の概要

半導体ウエハおよびマスク上の回路寸法を電子ビームを用いて測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主軸とする企業です。特に、高度な技術を要するマスク用電子ビーム微小寸法測定装置(Zシリーズ)を主力製品としており、半導体メーカーやマスクメーカーを主な顧客としています。電子ビーム技術、制御技術、真空技術を核とした高度な技術力を強みとしています。

主な事業領域

半導体ウエハおよびマスク上の回路寸法を電子ビームで測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売、および関連する保守サービス。

主な製品・サービス

  • マスク用電子ビーム微小寸法測定装置(Zシリーズ)
  • ウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置(ESPAシリーズ、ESPA-3000シリーズ)
  • LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置(EBLITHOシリーズ)
  • マスク用元素分析欠陥検査装置(LEXaシリーズ)
  • 保守サービス

ビジネスモデル

電子ビーム技術、制御技術、真空技術を基盤とした高付加価値な測定装置の販売、および自社製品の定期点検・修理等の保守サービスによる収益。

セグメント・事業構成

電子ビーム関連事業(生産高、受注高ともに前年同期比100%超の成長)

戦略・方向性

技術力向上による競争力の強化・確保、海外顧客向けのサービス体制の強化、製造環境の整備(スペース確保、振動・外乱磁場対策)、および高度な技術を要する分野での人材確保。

強みとして読み取れる点

  • 電子ビーム技術、制御技術、真空技術を基盤とした高度な技術力
  • マスク用電子ビーム微小寸法測定装置における独自の課題解決技術(チャージアップ抑制、コンタミネーション抑制、高分解能測定)
  • 高い売上高総利益率(目標50%以上)

課題として読み取れる点

  • 競合企業の参槌による競争の激化
  • 新型コロナウイルスによる海外サービス体制への影響
  • 製造スペースの不足と新製品に適した環境整備の必要性
  • 高度な技術を要する人材の確保

確認ポイント

  • 海外市場におけるサービス体制の安定性
  • 製造環境の拡充に向けた設備投資の進捗
  • 技術力による高付加価値製品の提供と売上高総利益率の維持

概要整理の信頼度: 4 / 5 ・事業内容、製品ラインナップ、経営課題、強み、および財務状況が詳細に記載されており、概要把握には十分な情報があるため。

有報ナビによる分析

有価証券報告書の記載内容をもとに、リスク、経営方針、 投資・研究開発に関する情報を整理したものです。

各スコアは、有価証券報告書の記載内容を整理するための参考指標です。 5段階表示で、スコアが高いほど各項目の性質が強く出ていることを表します。 ただし、投資判断、企業価値、将来業績を評価・予測するものではありません。

特に「リスク開示記載度」は、高いほど良いという意味ではありません。 有報上で注意して読むべきリスク記述が多い、具体的、または重い可能性があるという意味です。

スコアの詳しい見方
リスク開示記載度
スコアが高いほど、有価証券報告書に記載されたリスク開示について、 注意して読むべき記述の多さ・具体性・重さが強いことを表します。 企業そのものの危険度や倒産リスクを示すものではありません。
方針記載度
スコアが高いほど、経営方針、対処すべき課題、資本政策、 リスク対応などが具体的に記載されていることを表します。 方針の良し悪しや実現可能性を判定するものではありません。
投資・変化記載度
スコアが高いほど、設備投資、研究開発、新規事業、DX、海外展開、 事業構造の変化など、将来に向けた取り組みの記載が強いことを表します。 成長性や投資成果を予測するものではありません。

リスク開示の整理

リスク開示記載度: 2 / 5

有報ナビによる整理

主なリスク:半導体技術の進展状況に左右される事業構造。知的財産権(特許・職務発明)に関する訴訟リスク。検収時期の変動による業績への影響。海外展開に伴う地政学的・経済的要因や為替の影響。特定仕入先への高い依存度(対応策:設計部による監視・調査体制)。競合他社との競争。技術革新による既存技術の陳腐化。高度な専門人材の確保と流出リスク。新製品開発における投資回収の不確実性。国際的な安全規格(CE、UL/FDA、SEMI等)への対応。

経営方針・課題の整理

方針記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

高度な電子ビーム技術を核とした半導体測定装置のニッチトップ企業。微細化トレンドに合致する製品群が好調で、高い利益率を確保しつつ安定した財務基盤を構築している。新工場建設やAI活用など、将来の需要拡大と技術革新への対応に向けた戦略的な投資も明確。

成長方針

半導体微細化の進展に伴うマスク用電子ビーム測定装置(Zシリーズ)の需要拡大への対応。競合他社参入による競争激化に対し、技術力向上による差別化と高付加価値製品の提供を通じた売上高総利益率50%以上の確保を目指す。また、AI技術を導入したソフトウェア開発や次世代装置の開発にも注力。

資本政策

安定的な流動性の確保を基本方針とし、運転資金は自己資金および金融機関からの短期借入、設備投資や長期運転資金は金融機関からの長期借入を基本とする。有利子負債に対し十分なキャッシュを保有しており、良好な財務健全性を維持。

リスク対応方針

知的財産権の保護と他社侵害への対応体制整備、特定仕入先への依存リスクに対する監視・調査体制の構築、海外販売における為替・規制リスクへの対応。また、製造スペース不足に対応するための新工場建設に向けた設備投資計画を策定し、生産能力の拡大と技術革新への適応力を強化。

関連する原文は、下部の「有報本文」に掲載しています。

投資・研究開発・成長施策の整理

投資・変化記載度: 4 / 5

有報ナビによる整理

電子ビームを用いた極微小寸法測定装置の分野で強固な技術基盤を持つ。半導体微細化とOPC対応の進展により、同社の独自技術(ACD等)を含む高付加価値製品が求められる環境にある。新工場建設に向けた設備投資は、将来の需要拡大と次世代技術への対応を目的とした戦略的な動きである。

設備投資の方向性

新工場の建設に向けた設備投資を計画中。老朽化した現工場のスペース不足により、次世代装置や新規装置の開発・生産に対応するための製造環境の確保が急務となっている。

研究開発・商品開発

電子ビーム技術を用いた半導体測定装置の高度化(低加速電圧、収差補正など)に加え、AI技術を導入した画像分類・評価システムの開発、および新製品への対応に向けた共同開発を実施。研究スタッフも増員している。

投資・変化テーマ

  • 半導体製造装置(CD-SEM)
  • 電子ビーム技術
  • 微細化対応技術
  • AIによる画像解析

関連キーワード

  • 電子ビーム
  • マスク用CD-SEM
  • ウエハ用CD-SEM
  • ACD(コンタミネーション抑制)
  • 低加速電圧技術
  • 収差補正レンズ
  • DR-SEM
  • EBLITHO

財務情報

提出書類の財務情報を、会計基準や表示範囲とあわせて整理しています。

表示基準

会計基準日本基準 連結区分単体 対象期間2019-04-01 〜 2020-03-31 表示状況表示可能

提出日: 2020-06-25

財務情報

業績

売上高

42.68億円
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営業利益

14.43億円
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経常利益

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税引前利益

14.01億円
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当期利益

9.68億円
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財政状態・流動性

総資産

42.69億円
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26.25億円
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キャッシュフロー

3区分

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財務項目の関係

資本項目の関係

同値だが別Fact
根拠・定義
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確認事項

開示上の確認事項

この表示に確認事項はありません。

文書情報を確認
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2019-04-01 〜 2020-03-31
表示状況
表示可能
選定状況
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有報本文

有報ナビによる整理の根拠となる原文を、項目ごとに確認できます。

事業・経営に関する有報本文

有価証券報告書から抽出した本文の一部です。抽出位置や区分は自動処理のため、原文全体の確認もあわせて推奨します。

事業・経営に関する有報本文を表示

事業の内容

抜粋表示 / 原文長 約3229文字

3 【事業の内容】 当社は、半導体ウエハ及びマスク上の半導体の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。 半導体デバイスの製造プロセス (1) では、マスクと呼ばれるものとウエハと呼ばれるものとがあります。写真の世界で言えばマスクはネガフィルム、ウエハは印画紙に相当します。 半導体デバイスは微細化が進み、従来の光学式測定装置では測定が不可能となり、光源に電子ビームを使った微小寸法測定装置(電子ビーム技術、それをコントロールする制御技術及び真空技術等を要素技術とした検査装置)が開発されました。この電子ビームによるマスクとウエハ上の回路パターンの微小寸法測定装置が当社の主製品であり、当社の顧客の大半は半導体デバイスを製造する半導体メーカー、マスク(原版)を製造するマスクメーカーであります。 当社は設立当初はウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置により市場開拓を行いましたが、現在の主力製品はマスク用電子ビーム微小寸法測定装置となっております。 その他の事業として自社製品の定期点検、修理等の保守サービス及び他社との共同開発研究も業務の一部として行っております。 当社の事業の系統図は、次のとおりであります。 親会社 株式会社エー・アンド・デイ (1) 製品事業 当社が開発・製造・販売している製品は、その用途から以下の4種類に大別されます。 ① マスク用電子ビーム微小寸法測定装置 当社製品名として「Zシリーズ」として販売しており、以下「Z」と記載します。 ② ウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置 当社製品名として「ESPAシリーズ」・「ESPA-3000シリーズ」として販売しており、以下「ESPA」・「ESPA-3000」と記載します。 ③ LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置 当社製品名として「EBLITHOシリーズ」として販売しており、以下「EBLITHO」と記載します。 ④ マスク用元素分析欠陥検査装置 当社製品名として「LEXaシリーズ」として販売しており、以下「LEXa」と記載します。 ① Z Zは、マスクの原版の回路図の線幅を測定し、回路の寸法検査及び欠陥検査を行う電子ビーム微小寸法測定装置です。 技術の最大の特徴は、レーザー等の光線ではなく電子ビームを使用しているため、光学式寸法測定装置より微細な回路パターンの寸法測定に対応することが可能な点です。 近年、半導体の回路パターンが微細化した上、高密度化した回路の原版であるマスクのパターン寸法に対応するため、OPCパターン付きマスク (2) が使用されています。OPCパターン付きマスクの検査は光学式寸法測定装置では対応できず、電子ビームを用いたマスク用微小寸法測定装置に対する高性能化の要求はますます高まるばかりです。…

経営方針・経営戦略・対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1899文字

1 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1) 経営方針、経営戦略等 ① 経営方針 当社は、「創造性のある製品を社会に提供することにより新たな価値を創造し、人類のテクノロジーの発展に貢献する」会社を目指し、経営を行ってまいりました。 具体的には、「創造性を持った技術であること」、「インターナショナルな企業であること」、「変化に対応できる個人重視の企業であること」、「科学技術を通して社会の発展に貢献できる企業であること」を企業方針として、社員一人一人の能力を最大限に引き出し、それを有機的に調和・集結して製品の創造に結実させていくことで社会の発展に貢献することを目的としております。 当社を取り巻く環境は、技術進歩の急激な進展等により大きく変化する厳しい時代でありますが、当社の持つ電子ビーム技術を軸として変化に適切に対応すべくユーザーの幅広いニーズに対応し企業価値の最大化に努めてまいります。 ② 経営戦略等 現在、当社が主力製品としている電子ビームを使用したマスク寸法測定装置は、今後も更なる微細化の進展によりマーケットは成長していくものと思われます。しかしながら、当マーケットにおいては競合企業の参入により、経営環境はこれまでになく厳しいものとなっております。当社はこのマーケットにおいて、技術力向上による競争力を強化・確保していくことを目指しております。 (2) 目標とする経営指標 当社は、売上高及び売上高総利益率を経営上の重要指標としております。特に売上高総利益率は技術力による高付加価値製品を提供することを目的としている当社にとっては、他社との差別化ができているかを判断できる重要な経営指標となっております。 具体的な数値としては売上高総利益率が50%を上回ることを目指しており、売上高の成長とともにお客様に高付加価値の製品を提供し高い売上高総利益率を確保することが、株主価値を向上できるものと考えております。 (3) 経営環境及び対処すべき課題 ① 海外顧客サービスの強化 当社の海外ビジネス開発、製品のサービスサポートは韓国支店以外、該当国のローカル会社に委託しております。これらの会社には20年以上も協力していただき支えてきてくれた会社もあれば、契約して数年しか経ていない会社もあります。当社主力製品のフォトマスクCD-SEMは高い精度、性能を有する一方、非常に複雑で精密な調整が必要です。したがってローカルサービスエンジニアに対する訓練、長く蓄積した経験が必要となります。これまでに現地で対応仕切れない業務は日本から当社エンジニアを派遣してサポートしてきました。…

対処すべき課題

抜粋表示 / 原文長 約1899文字

1 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1) 経営方針、経営戦略等 ① 経営方針 当社は、「創造性のある製品を社会に提供することにより新たな価値を創造し、人類のテクノロジーの発展に貢献する」会社を目指し、経営を行ってまいりました。 具体的には、「創造性を持った技術であること」、「インターナショナルな企業であること」、「変化に対応できる個人重視の企業であること」、「科学技術を通して社会の発展に貢献できる企業であること」を企業方針として、社員一人一人の能力を最大限に引き出し、それを有機的に調和・集結して製品の創造に結実させていくことで社会の発展に貢献することを目的としております。 当社を取り巻く環境は、技術進歩の急激な進展等により大きく変化する厳しい時代でありますが、当社の持つ電子ビーム技術を軸として変化に適切に対応すべくユーザーの幅広いニーズに対応し企業価値の最大化に努めてまいります。 ② 経営戦略等 現在、当社が主力製品としている電子ビームを使用したマスク寸法測定装置は、今後も更なる微細化の進展によりマーケットは成長していくものと思われます。しかしながら、当マーケットにおいては競合企業の参入により、経営環境はこれまでになく厳しいものとなっております。当社はこのマーケットにおいて、技術力向上による競争力を強化・確保していくことを目指しております。 (2) 目標とする経営指標 当社は、売上高及び売上高総利益率を経営上の重要指標としております。特に売上高総利益率は技術力による高付加価値製品を提供することを目的としている当社にとっては、他社との差別化ができているかを判断できる重要な経営指標となっております。 具体的な数値としては売上高総利益率が50%を上回ることを目指しており、売上高の成長とともにお客様に高付加価値の製品を提供し高い売上高総利益率を確保することが、株主価値を向上できるものと考えております。 (3) 経営環境及び対処すべき課題 ① 海外顧客サービスの強化 当社の海外ビジネス開発、製品のサービスサポートは韓国支店以外、該当国のローカル会社に委託しております。これらの会社には20年以上も協力していただき支えてきてくれた会社もあれば、契約して数年しか経ていない会社もあります。当社主力製品のフォトマスクCD-SEMは高い精度、性能を有する一方、非常に複雑で精密な調整が必要です。したがってローカルサービスエンジニアに対する訓練、長く蓄積した経験が必要となります。これまでに現地で対応仕切れない業務は日本から当社エンジニアを派遣してサポートしてきました。…

経営成績・財政状態の概況

抜粋表示 / 原文長 約2119文字

3 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (経営成績等の状況の概要) (1) 財政状態および経営成績の状況 当期におけるわが国経済は、輸出は弱含んでおり、雇用情勢は改善してきているものの新型コロナウイルスの影響で消費の落ち込みなど深刻な影響が出ております。海外経済におきましても、米中の貿易摩擦、英国のEU離脱問題に加え、同ウイルスの流行により減速しはじめ先行き不透明な状況であります。 半導体業界におきましては、国際半導体製造装置材料協会(SEMI)は、2020年の半導体前工程装置の投資額について従来予想より7億ドル下方修正し、578億ドルになる見通しと発表しました。しかし、現在のところ、当社主要顧客におきましてはEUV露光に係わる設備投資は計画通り進む様相を見せ、当社受注への影響は特段ない状況です。 このような状況のもと、当社の主力製品であるフォトマスク用CD-SEM「Zシリーズ」や、フォトマスク用DR-SEM(観察および分析)「LEXaシリーズ」等を計画以上に売り上げ、2019年11月7日、2020年3月23日の計2回業績予想の修正を発表し、当初の予想を上回る業績を達成しました。 (財政状態) 当事業年度末の総資産は、前事業年度末に比べ893百万円増加し、4,269百万円となりました。 (資産) 流動資産は、前事業年度末に比べて30.4%増加し、3,832百万円となりました。これは、電子記録債権が84百万円、未収消費税等が61百万円減少した一方、売掛金が579百万円、現金及び預金が476百万円増加したことなどによります。固定資産は、前事業年度末に比べて0.1%減少し、436百万円となりました。これは、投資その他の資産が5百万円増加した一方、無形固定資産が4百万円減少したことなどによります。この結果、総資産合計は、前事業年度末に比べて26.5%増加し、4,269百万円となりました。 (負債) 流動負債は、前事業年度末に比べて8.0%減少し、1,297百万円となりました。これは、未払法人税等が160百万円、1年内返済予定の長期借入金が71百万円増加した一方、前受金が246百万円、電子記録債務が102百万円減少したことなどによります。固定負債は、前事業年度末に比べて54.3%増加し、347百万円となりました。これは、リース債務が6百万円減少した一方、長期借入金が118百万円増加したことなどによります。この結果、負債合計は、前事業年度末に比べて0.5%増加し、1,644百万円となりました。 (純資産) 純資産合計は、前事業年度末に比べて50.8%増加し、2,624百万円となりました。これは、利益剰余金が884百万円増加したことなどによります。 (経営成績) 当事業年度におきましての売上高は4,267百万円(前年同期比44.…

セグメント関連

抽出本文 / 原文長 約117文字

【報告セグメントごとの固定資産の減損損失に関する情報】 前事業年度(自 2018年4月1日 至 2019年3月31日 ) 該当事項はありません。 当事業年度(自 2019年4月1日 至 2020年3月31日 ) 該当事項はありません。

主要な顧客・販売先

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2 販売先との契約において、機密情報を保持する義務を負っているため、総販売実績に対する割合が10%以上 の相手先は欄外で表示しております。 (アルファベット順) みずほ東芝リース株式会社 Applied Materials, Inc. Quanxin Integrated Circuit Manufacturing(Jinan) Co.,Ltd SK hynix Inc. Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.,Ltd (経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容) 文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1) 経営成績の分析 当社は、半導体マスク上の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。 当事業年度は、当初の年間目標を達成し、売上高は4,267百万円(前年同期比44.2%増)となりました。 損益につきましては、営業利益1,443百万円(前年同期比77.8%増)、経常利益1,428百万円(前年同期比76.1%増)及び当期純利益968百万円(前年同期比71.6%増)となりました。目標とする経営指標としている売上高総利益率は、53.5%(前年同期比4.0ポイント増)となりました。 地域別の販売実績の特徴として、近年海外アジア向けの売上が中心になっておりますが、売上バランスの均一化を図る為、国内や欧州・米国の売上高増加にも努めております。 地域別の販売実績は、下表のようになっております。 当事業年度は、国内向けの製品販売が全売上高の27.7%を占めており、その結果、海外向け売上高が全売上高の72.3%となりました。 (単位:千円) 前事業年度 (自 2018年4月1日 至 2019年3月31日 ) 当事業年度 (自 2019年4月1日 至 2020年3月31日 ) 金額 構成率 金額 構成率 アジア 2,142,344 72.4% 2,732,563 64.0% 欧州・北米 382,264 12.9% 351,662 8.2% 海外売上高合計 2,524,609 85.3% 3,084,225 72.3% 国内売上高合計 434,126 14.7% 1,183,297 27.7% 売上高 2,958,735 100.0% 4,267,523 100.0% (注) 金額には、消費税等は含まれていません。 (2) 財政状態に関する分析 当事業年度における財政状態の分析につきましては、「第2 事業の状況 3 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析(経営成績等の状況の概要)(1)財政状態および経営成績の状況」をご参照ください。…

リスクに関する有報本文

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事業等のリスク

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2 【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。 なお、文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。 (1) 収益構造について 当社は、半導体ウエハ及びマスク上の半導体の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。 このため、当社の業績は今後も半導体デバイスの微細化の進展状況等の影響を受けます。 (2) 知的財産権について 当社の技術の中には、特許として知的財産権を獲得するよりも、ノウハウとして保有するほうが事業戦略上優位であると考えられるものもあり、必ずしも全ての技術について特許を出願する必要はないと考えております。しかしながら、一部の技術については、競争状況の変化への対応や他製品への応用を展望した場合、特許権として保護するほうが当社にとって有利と考えられるものもあり、それらについては特許として出願するものもあります。 当社は、特許の出願については、有用性及び費用対効果を考慮して行っており、当社独自の技術あるいは研究成果について、必要に応じて、また、可能な範囲において特許権等の知的財産権の登録を行い、権利保護に努めることとしておりますが、他社により当社の権利が侵害される可能性があります。 また、他社知的財産権の侵害については、細心の注意を払っており、現時点において第三者より知的財産権に関する侵害訴訟を提起されていませんが、将来他社よりその保有特許等に対する侵害の通告を受ける、あるいは当社の認識していない特許等が成立し第三者が侵害を主張する等の可能性があり、裁判等の紛争に至った場合においてはその処理に多額の費用を要し、当社業績に影響を与える可能性があります。 また、近時においては職務発明に関する対価の額について、従業員である発明者が会社を相手に訴訟を起こす事例も報告されています。当社におきましては、発明者に支給される対価の額の算定について職務発明規程を制定しておりますが、それにもかかわらず成立した特許権について発明者が対価の額を不服として会社を訴えた場合には、その結果が当社の業績に影響を与える可能性があります。 (3) 検収時期の変動による業績変動の可能性について 当社の主力事業である製品事業では、半導体ウエハ及びマスクの微小寸法測定装置の開発・製造・販売を行っており、当該装置の1台あたりの販売価格は非常に高額となっております。 当社製品は納品までの製造工程を管理し、計画通り計上できるよう努めておりますが、得意先の検収のタイミングにより当社の業績が大きく変動する可能性があります。…

投資・研究開発に関する有報本文

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研究開発・設備投資などの有報本文を表示

研究開発活動

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(9) 研究開発投資等について 当社の事業は、顧客からの要求に応じて最先端かつ高度な技術力を提供していくことが重要な要素です。このような要求に対処し顧客満足を高め、製品の付加価値を高めていく為には自ら他社に先駆けた最先端技術の情報収集、製品の評価、品質管理に注力しているほか関連する研究開発投資を続けていく方針です。 これらの技術力を維持するために研究開発費の比率が高くなっておりますが、研究開発型企業であるため優秀な人材の確保が困難になった場合や人材の流出が生じた場合及び技術革新への対応に支障が生じた場合には、当社の競争力が低下し業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 (10) 新製品開発力について 当社の製品は革新的な技術力に裏打ちされたもので、今後も継続して魅力ある製品開発を行っていく予定ですが、開発と販売のプロセスは不確実なものであり、長期的な投資と大量の資源導入が新製品・新技術の創造へとつながる保証はなく、新製品や新技術への投資に必要な資金と資源を今後十分充当できるという保証もありません。 また、当社が顧客から支持を獲得できる新製品、新技術を正確に予想することができるとは限らず、販売が必ずしも成功する保証もありません。 このため、当社が業界と顧客の変化を十分に予測できず、魅力ある新製品を開発できない場合には業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 (11) 製品に必要とされる規格について 電子ビーム微小寸法測定装置に関して、ヨーロッパ向けにはCEマーキング、アメリカ向けにはUL/FDA等の安全規格に合致している必要があり、また、特定の取引先への納入には、ワールドワイドで共通な半導体製造、検査装置の標準仕様であるSEMIの規格に合致していることが求められています。 当社では、これらの製品安全に関する国内外事例・規格(JIS、CEマーキング、UL/FDA、SEMI)を基に製品化しており、第三者認証機関(TUV product service)の認証を取得していますが、今後、求められる製品規格に変更があり、当社がこれに対応できない場合には、当社の業績に影響が出る可能性があります。 (12)新工場の建設関連設備投資について 当社は、進行する半導体デバイスの微細化に伴う当社製品への需要の増加に対応すべく、新工場の建設関連の設備投資を計画しております。近年のAI、5G通信など半導体をけん引するマーケットは益々拡大すると見込まれておりますが、老朽化した現工場の手狭な製造スペースでは増加した受注や次世代装置、新規装置の開発などの対応が難しくなっていることから、製造環境の確保を目的とした設備投資を行うものであります。…

設備投資等の概要

抽出本文 / 原文長 約933文字

(6) フォトマスク市場の動向及び顧客の設備投資について ① フォトマスク市場の動向について フォトマスク検査装置の需要に連動する市場としてフォトマスク市場があります。半導体を使用する最終製品であるスマートフォン(スマホ)に代表されるように、これまでより更に複雑・微細・過密な半導体が必要になっており、ひいてはマスク検査の測定点も増大するものと考えられます。従いまして、フォトマスク市場は今後も増大していくものと推定しておりますが、これらの市場動向の変動によって当社の財政状態及び経営成績は影響を受ける可能性があります。 ② 顧客の設備投資について 当社の製品である微小寸法測定装置の販売は、顧客の設備投資動向の変動に影響を強く受けることが予測されます。当社は企業体質の強化や競争力維持に努め、顧客の設備投資動向に対処する所存ですが、顧客の設備投資の動向によって当社の財政状態及び経営成績が影響を受ける可能性があります。 (7) 競合の状況について 当社の主要製品は、類似製品の販売や低価格製品の販売が行われることにより、当社の業績に影響を受ける場合があります。 マスクCD-SEMは、市場に競合会社が参入しております。 当社のマスク用電子ビームCD-SEMは、当市場に先発したデファクトスタンダードの製品であると認識していますが、競合技術が当社製品技術を上回った場合、当社の業績が影響を受ける可能性があります。 (8) 電子ビーム微小寸法測定装置への依存について 当社製品は、対象がマスクとウエハであるという相違点はありますが、いずれも電子ビームを利用した微小寸法測定、検査、製造装置です。 微小寸法測定装置には、当社の採用している電子ビーム式の他に光学式があり、最近は技術革新が激しい業界であることから、当社の保有する技術は陳腐化する可能性があります。 当社はこのような技術革新に対応する為に常に新しい技術を習得し、学会や研究会へ積極的に参加し、従業員の能力を高め、顧客からのニーズに対して的確に対応していく方針ですが、技術革新や顧客からのニーズに対応できない場合ないしは劇的な技術革新が生じて当社が対応できない場合には、当社の業績に影響を受ける場合があります。

その他の有報本文

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補足セクションの有報本文を表示

配当政策

抽出本文 / 原文長 約511文字

3 【配当政策】 当社は、株主の皆様に対する利益還元につきましては経営の重要事項として認識しており、経営基盤の充実及び事業拡大に向けての内部留保の充実を図りつつ、収益やキャッシュ・フローの状況に応じた株主に対する適切な配当を実施していくことを基本方針としております。 当社の剰余金の配当は、中間配当及び期末配当の年2回を基本的な方針としております。配当の決定機関は、中間配当は取締役会、期末配当は株主総会であります。 当事業年度の剰余金の配当につきましては、1株当たり20円(うち中間配当金10円)としております。 また、内部留保資金につきましては、変化の激しい半導体業界の中にあって、企業体質の強化ならびに新製品開発等の効果的な投資に役立てていく方針であります。 当社は、取締役会の決議によって毎年9月30日を基準日として中間配当を行うことができる旨を定めております。 (注)基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。 決議年月日 配当金の総額 (千円) 1株当たり配当額 (円) 2019年11月7日 取締役会決議 33,401 10 2020年6月24日 定時株主総会決議 33,401 10

従業員の状況

抽出本文 / 原文長 約10文字

5 【従業員の状況】

コーポレート・ガバナンス

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(1) 【コーポレート・ガバナンスの概要】 ① コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方 当社のコーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方は、法令遵守体制の確立、リスク管理、社会的責任、そして適切な内部統制システムを維持するための重要な考え方と認識しており、取締役会の機能強化、監査役・経営企画室の連携の強化を図るとともに、投資者に対するアカウンタビリティとディスクロージャーの徹底を図り、企業統治をより一層推進していきたいと考えております。 ② 企業統治の体制の概要及び当該体制を採用する理由 当社は監査役制度を採用し、監査役会を設置しております。有価証券報告書提出日現在、監査役は常勤1名、非常勤2名の3名の体制であり、監査役は取締役会への出席を通じて取締役会の業務執行にかかわる監視・監督機能を果たしております。 また、取締役会は、代表取締役1名、取締役6名の計7名のほか既述通り監査役3名が出席しております。臨時を除く通常の取締役会は毎月1回開催し取締役会規程に基づいて付議事項の決裁及び適宜各取締役による業務報告を行っております。 当社の企業統治の体制の模式図は以下の通りであります。 ③ 企業統治に関するその他の事項 a. 内部統制システムの整備の状況 当社の内部統制システムといたしましては、業務分掌を明確化し各部門間の内部牽制体制が機能する仕組みを整備しております。また、統制手段としては社内規程等の整備を図り、適正な運用管理を行うとともに、経営企画室が会計監査人、監査役と連携して逐次監査を実施しております。 b. リスク管理体制の整備状況 当社のリスク管理体制は、企業倫理の重要性を認識し、法律を遵守した行動をすることを第一義と考えており、リスクマネジメントポリシー及びリスクマネジメント規程を制定し、社内における企業倫理の徹底に取り組んでおります。このような観点より、取締役会、監査役会といった機関によるリスク管理のほか、内部監査機能を充実させております。 c. 反社会的勢力排除に向けた基本的な考え方及びその整備状況 当社は、社会の秩序や安全に脅威を与える反社会的勢力及び団体に対して従来どおり、関係を遮断し、不当、不法な要求に対しては毅然とした姿勢で臨み、決してかかる要求に応じないこととしています。 また、当社は、コンプライアンス規程に基づき、社長を責任者として、反社会的勢力及び団体から不当、不法な要求を受けた場合は、速やかに警察等外部機関と連携し、関係部署が連携、協力して組織的に対応します。 d. 責任限定契約 当社は、会社法第427条第1項の規定に基づき、取締役(業務執行取締役等であるものを除く)及び監査役との間で、会社法第423条第1項の損害賠償責任を限定する契約を締結しております。…

重要な契約等

抽出本文 / 原文長 約424文字

4 【経営上の重要な契約等】 販売代理店契約 相手方の名称 国名 契約品目 契約内容 契約期間 Lim Chemical Co.,Ltd 台湾 半導体検査装置(CD-SEM等) 1 台湾地区に於ける販売代理店 2 アフターサービス 1999年5月1日より2年間、その後自動延長 MIC-Tech(Shanghai)Corp. 中国 半導体検査装置(CD-SEM等) 1 中国地区に於ける販売代理店 2 アフターサービス 2008年5月19日より1年間、その後自動延長 SUN Semiconductor Co.,Ltd 韓国 半導体検査装置(CD-SEM等) 1 韓国地区に於ける販売代理店 2 アフターサービス 2012年9月15日より2年間、その後自動延長 Applied Materials, Inc. 米国 半導体検査装置(CD-SEM等) 1 米国地区に於ける販売代理店 2 アフターサービス 2016年2月5日より3年間、その後自動延長

大株主の状況

抽出本文 / 原文長 約930文字

(6) 【大株主の状況】 2020年3月31日 現在 氏名又は名称 住所 所有株式数 (株) 発行済株式 (自己株式を 除く。)の 総数に対する 所有株式数 の割合(%) 株式会社エー・アンド・デイ 東京都豊島区東池袋3丁目23-14 1,703,600 51.00 日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社(信託口) 東京都中央区晴海1丁目8-11 161,400 4.83 MLI FOR CLIENT GENERAL OMNI NON COLLATERAL NON TREATY-PB (常任代理人 メリルリンチ日本証券株式会社) MERRILL LYNCH FINANCIAL CENTRE 2 KING EDWARD STREET LONDON EC1A 1HQ (東京都中央区日本橋1丁目4-1) 91,800 2.75 NOMURA PB NOMINEES LIMITED OMINIBUS-MARGIN (CASHPB) (常任代理人 野村證券株式会社) 1 ANGEL LANE, LONDON, EC4R 3AB, UNITED KINGDOM (東京都中央区日本橋1丁目9-1) 45,200 1.35 資産管理サービス信託銀行株式会社(証券投資信託口) 東京都中央区晴海1丁目8-12 42,000 1.26 MSCO CUSTOMER SECURITIES (常任代理人 モルガン・スタンレーMUFG証券株式会社) 1585 BROADWAY NEWYORK, NEW YORK 10036, U.S.A. (東京都千代田区大手町1丁目9-7) 28,000 0.84 井上 宏 福岡県福岡市西区 25,500 0.76 冨加津 竜馬 東京都多摩市 25,200 0.75 安達 正造 大阪府大阪市中央区 24,000 0.72 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505025 (常任代理人 株式会社みずほ銀行) P.O. BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02101 U.S.A. (東京都港区港南2丁目15-1) 18,000 0.54 2,164,700 64.81

出典

データ元
EDINET 有価証券報告書
docID
S100IW2Z 外部サイト(EDINET公式サイト)を開きます

技術情報

分析バージョン
2020
使用モデル
gemma4:12b

このページについて

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